一、碳酸鈣垢
在阻垢劑添加系統出現故障時或加酸系統出現而導致給水 PH 升高，那么碳酸鈣就有可能沉積，出來，應盡早發現碳酸鈣垢沉淀的發生，以防止生長的晶體對膜表面產生損傷，如早期發現碳酸鈣垢，可以用降低給水 PH 至 3.0 ～ 5.0 之間運行 1 ～ 2 小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應采用檸檬酸清洗液進行循環清洗或通宵浸泡。
注：應確保任何清洗液的 PH 不要低于 2.0 ，盃則可能會 RO 膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應注意，最高的 PH 不應高于 11.0 。查使用氨水來提高 PH ，使用硫酸或鹽酸來降低 PH 值。
二、硫酸鈣垢
清洗液 2( 參見表面化 ) 是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。
三、金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物 ( 例如氫氧化鐵 ) 。
四、硅垢
對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們去除。
五、有機沉積物
有機沉積物 ( 例如微生物粘泥或霉斑 ) 可以使用清洗液 3 去除，為了防止再繁殖，可使用經海德能公司認可的殺菌溶液在系統中循環、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，最好采用消毒處理，請與海德能公司會商以確定適宜的殺菌劑。
六、清洗液
清洗反滲透膜元件時建議采用表 2 所列的清洗液。確定清洗前對污染物進行化學分析十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據。
對于無機污染物建議使用清洗液 1 。對于硫酸鈣及有機物建議使用清洗液 2 。對于嚴重有機物污染建議使用清洗液 3 。所有清洗可以在最高溫度為華氏 104 度 ( 攝氏 40℃) 下清洗 60 分鐘，所需用品量以每 100 加侖 (379 升 ) 中加入量計，配制清洗液時按比例加入藥品及清洗用水，應采用不含游離氯的反滲透產品水來配制溶液并混合均勻。
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